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东莞市精滤电子科技有限公司
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抛光粉

时间:2012/11/20 15:07:53    浏览:2344
主要特点
晶粒尺寸微细、晶型完好;
比重大,具有良好的分散性。
比表面积大,适合于镜面精抛光用途。
适用性强,每次只需0.5克左右既可完成一次标本样品的镜面抛光处理。
实验操作简单,只需与抛光布配套使用。
保存期限长,长期保存二年以上都不会出现变质而影响产品的抛光性能。
便于样品标本的精确科学分析。
 
技术参数
纯度:>99.6%;
原生粒径:13--50nm(0.013um--0.05um);
比表面积:90-110(m2/g);
水份%:<5%;
PH值:4.5--5.5;
操作指示:
1)用勺子取0.5克左右的抛光粉放在研磨盘的抛光布上;
2)用少许水湿润抛光粉;
3)开启研磨切片机,然后将样品标本放在有抛光粉的抛光布上研磨抛光即可。
操作注意事宜:
1)抛光时间不宜过长,5-10秒即可;
2)抛光时间过长,可能会导致样品标本镜面发暗的情形;
3)如果出现样品标本镜面发暗情形,只需将样品重新用幼砂纸研磨3-5秒,然后重新抛光即可;
4)样品标本镜面抛光前,务必先将样品用各种型号的砂纸将样品标本研磨到理想的待抛光状态,以避免影响后续的抛光效果;
 

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